[发明专利]增强侧向光场的光源在审

专利信息
申请号: 201910141106.6 申请日: 2019-02-26
公开(公告)号: CN111609328A 公开(公告)日: 2020-09-01
发明(设计)人: 唐文婷;陈宝瑨;张瑞;蔡勇 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: F21K9/23 分类号: F21K9/23;F21K9/69;F21K9/68;H01L33/58;H01L33/48;F21Y115/10
代理公司: 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 代理人: 王茹;王锋
地址: 215123 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种增强侧向光场的光源,包括半导体发光元件和透镜,所述半导体发光元件被包埋于透镜内并与透镜无缝结合,所述透镜具有顶面以及与顶面连接的侧面,所述半导体发光元件具有一个以上出光面,其中至少一个出光面朝向透镜的顶面设置,由所述半导体发光元件射向透镜顶面的至少部分光线能够被所述透镜顶面反射再从透镜侧面透射出。本发明的增强侧向光场的光源结构简单,将反射式照明应用中的光利用效率大大增加;相比于未加透镜的光源,使出光功率提高;与二次透镜相比,所述一次透镜体积小、重量轻,在光源封装时实现与芯片的无缝连接,便于安装,出光率提高;同时制程简单便捷、低成本、体积小、适于规模化制造和应用。
搜索关键词: 增强 侧向 光源
【主权项】:
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