[发明专利]一种银氧化锡复合涂层及其制备方法有效
申请号: | 201910147065.1 | 申请日: | 2019-02-27 |
公开(公告)号: | CN109666894B | 公开(公告)日: | 2021-02-09 |
发明(设计)人: | 杜铁路 | 申请(专利权)人: | 西安方科新材料科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/16 | 分类号: | C23C14/16;C23C14/08;C23C14/35 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 姚咏华 |
地址: | 710077 陕西省西安市高新区锦*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明涉及一种银氧化锡复合涂层及其制备方法,包括依次沉积于基底上的梯度过渡层和银氧化锡复合涂层,本发明利用磁控溅射共溅射技术,基于对膜基界面梯度过渡层的优化以及沉积工艺参数的调控和配合,使得银氧化锡复合涂层在沉积过程中可以实现基底与涂层的牢固结合,并在沉积过程中可以及时释放掉涂层内应力,保证涂层的连续生长。本方法制备的银氧化锡涂层具有良好的接触电阻和表面粗糙度,其纳米级别尺寸的氧化锡均匀分布在银基体中,可以显著提高耐电弧烧蚀性和使用寿命。本发明方法工序少、效率高、绿色环保,设备操作简单,具有良好的工业化应用前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 氧化 复合 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种银氧化锡复合涂层,其特征在于,复合涂层包括梯度过渡层和银氧化锡复合涂层,且梯度过渡层和银氧化锡复合涂层均采用磁控溅射技术依次沉积于基底上;所述梯度过渡层为镍铬合金层,镍铬合金层包括5层;最底层为纯铬打底层,中间层为依次按照铬体积百分比为10%递减的铬镍层,最上层为体积百分比为60:40的铬镍层。
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