[发明专利]一种掩模版凸版检测装置、传输系统及光刻设备有效

专利信息
申请号: 201910151508.4 申请日: 2019-02-28
公开(公告)号: CN111623718B 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 向军;朱正平;郑教增;姜杰;庞飞;郝凤龙 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G01B11/14 分类号: G01B11/14;G03F7/20
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开一种掩模版凸版检测装置、传输系统及光刻设备,其中,掩模版凸版检测装置包括:测距传感器,位于版库的一侧;调节组件,用于调节所述测距传感器对所述版库的各版槽进行扫描,且使所述测距传感器发射的测距信号经各所述版槽中的掩模版反射后,能够原路反射回所述测距传感器;检测机构,与所述测距传感器及所述调节组件连接,用于控制所述测距传感器和所述调节组件工作,并根据所述测距传感器在扫描各所述版槽时的扫描位姿以及所述测距传感器测得的距离信息,确定各所述版槽是否存在凸版,无需进一步人为检查,提高了凸版检测效率。
搜索关键词: 一种 模版 凸版 检测 装置 传输 系统 光刻 设备
【主权项】:
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