[发明专利]发光二极管芯片、发光二极管及发光二极管芯片制作方法在审

专利信息
申请号: 201910151733.8 申请日: 2019-02-28
公开(公告)号: CN109728143A 公开(公告)日: 2019-05-07
发明(设计)人: 王思博;胡欢欢;简弘安;刘宇轩;陈顺利;丁逸圣 申请(专利权)人: 大连德豪光电科技有限公司
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14;H01L33/46
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 郭玮;李双皓
地址: 116051 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 本申请涉及一种发光二极管芯片、发光二极管及发光二极管制作方法,其中,发光二极管芯片包括依次层叠设置的发光二极管晶圆、电流扩展层和电流阻挡层。其中,所述发光二极管晶圆开设有台阶;所述发光二极管芯片还包括P电极和N电极,所述P电极设置于所述电流扩展层,所述N电极设置于所述台阶;所述电流阻挡层为分布式布拉格反射镜结构。本申请提供的发光二极管芯片能够提高亮度和发光效果。
搜索关键词: 发光二极管芯片 发光二极管 电流扩展层 电流阻挡层 晶圆 分布式布拉格反射镜 发光效果 依次层叠 申请 制作
【主权项】:
1.一种发光二极管芯片,其特征在于,包括依次层叠设置的发光二极管晶圆(100)、电流扩展层(200)和电流阻挡层(300),其中,所述发光二极管晶圆(100)开设有台阶(110);所述发光二极管芯片还包括P电极(410)和N电极(420),所述P电极(410)设置于所述电流扩展层(200),所述N电极(420)设置于所述台阶(110);所述电流阻挡层(300)为分布式布拉格反射镜结构。
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