[发明专利]用于测量弯曲的设备及方法在审
申请号: | 201910155175.2 | 申请日: | 2019-02-26 |
公开(公告)号: | CN110940293A | 公开(公告)日: | 2020-03-31 |
发明(设计)人: | 蔡俊弘;陈宣伃;胡逸群;施孟铠;唐心陆 | 申请(专利权)人: | 日月光半导体制造股份有限公司 |
主分类号: | G01B11/25 | 分类号: | G01B11/25;G01B11/16 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 蕭輔寬 |
地址: | 中国台湾高雄市楠梓*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本申请提供一种用于量测弯曲的设备及方法。一种设备包括:第一图像撷取模组、第二图像撷取模组及第一投影仪。所述第一图像撷取模组具有第一光轴,所述第一光轴相对于载体的表面形成大约70°至大约87°的角度。所述第二图像撷取模组具有第一光轴,所述第一光轴相对于所述载体的所述表面形成大约90°的角度。所述第一投影仪具有第一光轴,所述第一光轴相对于所述载体的所述表面形成大约40°至大约85°的角度。 | ||
搜索关键词: | 用于 测量 弯曲 设备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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