[发明专利]三维双连通多孔铜原位生长Cu2-xS电极材料的制备方法在审

专利信息
申请号: 201910158899.2 申请日: 2019-02-28
公开(公告)号: CN109894620A 公开(公告)日: 2019-06-18
发明(设计)人: 张志佳;王宜霄;闫琳;于镇洋;黄钦;康建立 申请(专利权)人: 天津工业大学
主分类号: B22F3/26 分类号: B22F3/26;B22F3/11;C01G3/12;H01M4/58;H01M4/62
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 300000 天津*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种三维双连通多孔铜原位生长Cu2‑xS电极材料的制备方法,包括如下步骤:1)配制铸膜液;2)刮膜;3)烧结;4):称取质量比为3∶1~5∶1~2的NaOH、巯基乙醇和硫粉于三口烧瓶中,并加入无水乙醇100ml,将步骤3)中获得的平板铜膜放入三口烧瓶中并磁力搅拌24h,得到原位生长Cu2‑xS电极材料,其中平板铜膜与硫粉的质量比为1∶1~0.04。本发明所述的三维双连通多孔铜原位生长Cu2‑xS电极材料的制备方法简单且参数易于控制;可通过调控铜膜制备参数获得不同孔径分布和尺寸的多孔铜膜,进而可制备出不同负载量的Cu2‑xS负极材料;制备的电极材料具有较好的韧性、较高孔隙率、较高覆载率。
搜索关键词: 制备 电极材料 原位生长 多孔铜 铜膜 连通 三维 三口烧瓶 质量比 硫粉 配制铸膜液 参数获得 磁力搅拌 负极材料 高孔隙率 孔径分布 无水乙醇 巯基乙醇 烧结 负载量 称取 放入 刮膜 调控
【主权项】:
1.一种三维双连通多孔铜原位生长Cu2‑xS电极材料的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:1)配制铸膜液:将铜粉、溶剂和致孔剂按溶剂和致孔剂按30∶20~25∶1.5~3的质量比放入三口烧瓶中,20~40℃搅拌5~10h直至均匀,配置成铸膜液;2)刮膜:将制备好的铸膜液倒在玻璃板上进行刮膜,调整刮膜棒厚度为100~250μm,刮出相应生坯厚度的膜,放入凝胶浴中交换溶剂获得多孔结构生坯,在真空干燥箱中干燥;3)烧结:将步骤2)中获得的生坯在管式炉中先通空气以1~5℃/min的速率升温到450~700℃,保温0.5~2h后自然降温,随后以5~10℃/min的速率在氩气和氢气环境下升温到450~700℃,保温0.5~2h后自然降温,获得三维双连通多孔铜平板膜;4):称取质量比为3∶1~5∶1~2的NaOH、巯基乙醇和硫粉于三口烧瓶中,并加入一定量的无水乙醇,将步骤3)中获得的平板铜膜放入三口烧瓶中并磁力搅拌24h,得到原位生长Cu2‑xS电极材料,其中平板铜膜与硫粉的质量比为1∶1~0.04。
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