[发明专利]排气后处理装置

摘要

一种用于处理排气的排气处理装置(100)包括：主体(110)，所述主体限定了内部(111)、入口(115)、以及出口(116)；入口安排(120)，所述入口安排被布置在所述入口(115)处；后处理基材(130)，所述后处理基材被布置在所述入口(115)与所述出口(116)之间；限流器安排(140)，所述限流器安排被布置在所述主体内部(111)的第一封闭端(112)与所述后处理基材(130)之间；以及配量安排(150)，所述配量安排被配置成将反应物喷射到所述排气中。所述限流器安排(140)限定了限流通路，所述限流通路(145)朝向所述第一封闭端(112)延伸，以使得从所述入口(115)进入所述主体内部(111)的排气在进入所述限流通路(145)和通到所述后处理基材(130)前面的第二室(119)之前绕所述限流通路(145)成涡旋。

主权项

1.一种用于处理排气的排气处理装置(100、200、300、400)，包括：主体(110)，所述主体(110)限定内部(111)，所述主体内部沿纵向轴线从第一封闭端延伸至第二端，所述主体(110)限定在第一密封闭端与第二端之间延伸的圆周壁(114)，所述圆周壁(114)限定朝向第一封闭端的入口开口(115)，所述主体(110)还限定出口(116)；入口结构(120、220、320、420)，所述入口结构设置在入口开口(115)处，所述入口结构(120、220、320、420)限定通向主体(110)的内部(111)的入口通道(121、221、321、421)；后处理基材(130)，所述后处理基材(130)被设置在主体(110)的内部(111)中位于入口开口(115)与出口(116)之间，所述后处理基材(130)与第一封闭端间隔开，以在主体内部中限定混合区域(117)；限流器结构(140)，所述限流器结构(140)被设置在主体(110)的内部(111)中位于第一封闭端与后处理基材(130)之间，所述限流器结构(140)将混合区域(117)分成第一室(118)和第二室(119)；和配量结构(150)，所述配量结构(150)被配置成接纳喷射器以将反应物喷洒到排气中，从而使得反应物与排气在第一室(118)中混合，所述配量结构(150)被配置成使得安装至配量结构(150)的任何喷射器的喷射轴线不与主体(110)的纵向轴线共轴；其中：限流器结构(140)限定第一和第二室(118、119)之间的限流通路(145)，所述限流通路(145)朝向第一封闭端伸入第一室(118)，使得从入口通道(121、221、321、421)进入主体内部的排气在进入限流通路(145)并通到第二室(119)之前绕限流通路(145)成涡旋；其中，第一封闭端由内板限定，所述内板使设置在主体(110)内的隔离件固位。