[发明专利]一种二氧化硅烘干除杂系统

摘要

本发明公开了一种二氧化硅烘干除杂系统，涉及二氧化硅制造技术领域，基于二氧化硅生产过程中易残留铁屑等杂质，影响产品质量的问题而提出的，本发明包括机架、烘干装置、除杂装置；所述除杂装置包括第一除杂装置和第二除杂装置；所述烘干装置位于机架上，所述烘干装置包括烘干箱体，所述烘干箱体的顶部设有进料口，所述烘干箱体上设有出料口，二氧化硅从所述出料口落入所述第一除杂装置上。本发明的有益效果在于：二氧化硅物料经过干燥和二次除杂，去除二氧化硅生产过程中易残留的铁屑和其他大颗粒杂质，干燥、除杂一次性完成，无需将二氧化硅重新运输至其他设备或装置，可以提高工作效率，同时干燥效率较高，除杂效果较好。

主权项

1.一种二氧化硅烘干除杂系统，其特征在于：按照工艺流程由前至后的顺序依次包括烘干装置、除杂装置；所述烘干装置包括烘干箱体，所述烘干箱体的顶部设有进料口，所述烘干箱体上设有出料口；所述除杂装置包括第一除杂装置和第二除杂装置；所述第二除杂装置位于第一除杂装置下方，用以对经所述第一除杂装置除杂后的二氧化硅物料进行过滤除杂；所述第一除杂装置包括主动辊、从动辊和驱动装置，从动辊和主动辊之间通过传送带传动连接，所述驱动装置驱动所述主动辊转动；所述从动辊具有磁性。