[发明专利]一种基于LED芯片生产加工的制造工艺在审
申请号: | 201910164893.6 | 申请日: | 2019-03-05 |
公开(公告)号: | CN109920886A | 公开(公告)日: | 2019-06-21 |
发明(设计)人: | 袁纪文 | 申请(专利权)人: | 扬州联华电子科技有限公司 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00;H01L33/38 |
代理公司: | 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 | 代理人: | 黄冠华 |
地址: | 225600 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于LED芯片生产加工的制造工艺,S1、清洗采用超声波清洗LED的支架,清洗参数为:超声振动频率20000赫兹,时间15‑30min,清洗完成后进行烘干,S2、提供一衬底,在衬底上生长半导体外延结构,形成LED晶圆,所述半导体外延结构包括从衬底向上依次设置的N型半导体层、发光层和P型半导体层,涉及LED芯片加工技术领域。该基于LED芯片生产加工的制造工艺,通过提供一衬底,在衬底上生长半导体外延结构,以减小局部电流聚集对LED芯片使用效率、寿命等的影响,且在不牺牲有源层有效发光面积的情况下,有效解决电流阻挡层与第二金属电极对出射光的遮挡和吸收,通过清洗采用超声波清洗LED的支架,能够快速蒸发支架上的水分。 | ||
搜索关键词: | 衬底 半导体外延结构 生产加工 制造工艺 清洗 支架 超声波清洗 超声振动频率 加工技术领域 有效发光面积 电流阻挡层 金属电极 局部电流 快速蒸发 使用效率 依次设置 有效解决 出射光 发光层 生长 烘干 减小 源层 遮挡 吸收 | ||
【主权项】:
1.一种基于LED芯片生产加工的制造工艺,其特征在于:具体包括以下步骤:S1、清洗采用超声波清洗LED的支架,清洗参数为:超声振动频率20000赫兹,时间15‑30min,清洗完成后进行烘干;S2、提供一衬底,在衬底上生长半导体外延结构,形成LED晶圆,所述半导体外延结构包括从衬底向上依次设置的N型半导体层、发光层和P型半导体层;S3、在半导体外延结构中的N型半导体层上形成N型半导体台面区,对LED晶圆沿着相邻芯粒中间进行激光划切,形成V型隔离沟槽,V型隔离沟槽包括从半导体外延结构延伸至衬底的第一斜面,分别在P型半导体层和N型半导体台面上制作P电极和N电极;S4、将LED芯片安置在刺片台的夹具上,LED支架放在夹具底下,在显微镜下用针将LED芯片一个一个刺到相应的位置上,在LED支架的相应位置点上银胶,用备胶机先把银胶涂在LED背面电极上;S5、先在LED支架上点上银胶,然后用将LED芯片吸起移动位置,再安置在相应的支架位置上,银胶烧结的温度控制在140‑160℃,烧结时间为1.5‑2小时,用金丝焊机将电极连接到LED管芯上,以作电流注入的引线,开启焊机进行压焊;S6、选用环氧支架对LED芯片进行点胶封装固化封装环氧,环氧固化条件在120‑135℃,1‑1.5小时,固化操作后进行后固化,让环氧充分固化,同时对LED进行热老化,条件为110‑120℃,4‑5小时;S7、采用切筋切断LED支架的连筋,在一片PCB板上,进行划片机来完成分离工作,在芯片正面制作绝缘钝化层,将成品进行计数包装,即为成品。
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