[发明专利]描绘装置

摘要

作为于基板(P)上一维地扫描光束(LBn)的光束扫描装置的扫描单元(Un)，具备于一方向具有聚焦力的第1柱面透镜(CY1)、使透过第1柱面透镜(CY1)的光束(LBn)偏向以便进行一维扫描的多面镜(PM)、将以远心的状态偏向的光束(LBn)投射至基板(P)的fθ透镜系统(FT)、及入射透过fθ透镜系统(FT)的光束(LBn)且于一方向具有聚焦力的第2柱面透镜(CY2)，第1柱面透镜(CY1)与第2柱面透镜(CY2)于彼此正交的方向具有聚焦力，该扫描单元(Un)进而具备设置于第1柱面透镜(CY1)与多面镜(PM)之间的透镜系统(G10)。

主权项

1.一种描绘装置，一面将被可动偏向构件偏向于第1方向的光束，以扫描用光学系统投射至被照射体上，一面于上述被照射体上沿上述第1方向进行一维扫描，以于上述被照射体描绘图案，其具备：第1调整光学系统，其包含第1透镜构件，该第1透镜构件具有用以使投射至上述可动偏向构件的上述光束在与上述第1方向正交的第2方向收敛的异向性折射力；及第2调整光学系统，其包含第2透镜构件，该第2透镜构件具有用以使从上述扫描用光学系统朝向上述被照射体的上述光束在上述第2方向收敛的异向性折射力；将上述光束的波长设为λ，将投射至上述被照射体的上述光束在上述第1方向的数值孔径设为NA_y，将在上述第2方向的数值孔径设为NA_x，将投射至上述被照射体的上述光束在上述第1方向的球面像差设为S₁，将在上述第2方向的球面像差设为S₂时，上述第1透镜构件与上述第2透镜构件，被设定为满足如下两个条件的任一者：S₁＜λ/NA_y²且S₂＜λ/NA_x²及|S₁－S₂|＜λ/NA_y²且|S₁－S₂|＜λ/NA_x²。