[发明专利]一种气体回用控制方法及气体回用控制设备在审
| 申请号： | 201910176716.X | 申请日： | 2019-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN109930201A | 公开（公告）日： | 2019-06-25 |
| 发明（设计）人： | 贾祯;金雪;冉瑞应;杨东 | 申请（专利权）人： | 银川隆基硅材料有限公司 |
| 主分类号： | C30B29/06 | 分类号： | C30B29/06;C30B27/02 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 莎日娜 |
| 地址： | 750000 宁夏回族自治区银*** | 国省代码： | 宁夏;64 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供了一种气体回用控制方法和一种气体回用控制设备，所述气体回用控制方法包括：净化单晶硅生产设备产生的气体，得到第一回用气体；检测所述第一回用气体的第一纯度；在所述第一纯度满足第一预设条件的情况下，将所述第一回用气体通向所述单晶硅生产设备；在所述单晶硅生产设备的入气口处检测所述第一回用气体的第二纯度；在所述第二纯度满足第二预设条件的情况下，将所述第一回用气体通入所述单晶硅生产设备。本发明实施例中，可以避免将不符合使用要求的回用气体通入所述单晶硅生产设备，提高所述单晶硅生产设备生产的单晶硅的品质。 | ||
| 搜索关键词： | 回用 单晶硅生产设备 控制设备 预设条件 单晶硅 入气口 检测 净化 生产 | ||
【主权项】：
1.一种气体回用控制方法，其特征在于，包括：净化单晶硅生产设备产生的气体，得到第一回用气体；检测所述第一回用气体的第一纯度；在所述第一纯度满足第一预设条件的情况下，将所述第一回用气体通向所述单晶硅生产设备；在所述单晶硅生产设备的入气口处检测所述第一回用气体的第二纯度；在所述第二纯度满足第二预设条件的情况下，将所述第一回用气体通入所述单晶硅生产设备。
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