[发明专利]基板处理装置及基板处理方法有效

专利信息
申请号: 201910176812.4 申请日: 2019-03-08
公开(公告)号: CN110277333B 公开(公告)日: 2023-06-16
发明(设计)人: 中根慎悟 申请(专利权)人: 株式会社斯库林集团
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 杨宏军;唐峥
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及基板处理装置及基板处理方法。本发明目的在于有效地防止气体从腔室向外部的流出及外部气体从外部向腔室内的流入。本发明的基板处理装置具备:在上表面载置形成有涂覆膜的基板的保持部;对载置于保持部的基板进行加热的加热部;在载置于保持部的基板的上方形成供气体流通的流通空间的腔室;经由在流通空间的一个端部侧开口的给气口而向流通空间供给加热后的气体的给气部;经由隔着流通空间而与给气口相反一侧的、在流通空间的另一端部侧开口的排气口,将气体从流通空间排出的排气部;对流通空间内的气压与腔室的外部气体的气压的压差进行检测的检测部;和基于该检测结果对给气量及排气量中的至少一者进行控制以使得压差减小的控制部。
搜索关键词: 处理 装置 方法
【主权项】:
1.基板处理装置,其具备:保持部,所述保持部在上表面载置形成有涂覆膜的基板;加热部,所述加热部对载置于所述保持部的所述基板进行加热;腔室,所述腔室收容所述保持部,并在载置于所述保持部的所述基板的上方形成供气体流通的流通空间;给气部,所述给气部经由在所述流通空间的一个端部侧在所述腔室中开口的给气口而向所述流通空间供给加热后的气体;排气部,所述排气部经由隔着所述流通空间而与所述给气口相反一侧的、在所述流通空间的另一端部侧在所述腔室中开口的排气口而将所述气体从所述流通空间排出;检测部,所述检测部对所述流通空间内的气压与所述腔室的外部气体的气压的压差进行检测;和控制部,所述控制部基于所述检测部的检测结果对利用所述给气部的给气量、和利用所述排气部的排气量中的至少一者进行控制,以使得所述压差减小。
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