[发明专利]用于光罩的时变强度图的产生

摘要

本申请涉及用于光罩的时变强度图的产生。本发明揭示用于检验光学光刻光罩的方法及设备。界定光罩的多个片块区。在于任何光学光刻过程中使用光罩之前，在第一检验期间使用光学光罩检验工具来针对多组一或多个片块区中的每一组获得对应于从所述光罩的每一片块区的多个子区测量的光的多个参考强度值的参考平均值。在于多个光学光刻过程中使用所述光罩之后，在第二检验期间使用所述光学光罩检验工具来针对所述组一或多个片块区中的每一组获得对应于从所述光罩的每一片块区的所述多个子区测量的光的多个测试强度值的平均值。针对所述第一检验及所述第二检验两者使用所述光学光罩检验工具的同一设置配方。产生差强度图，且此图包括各自对应于所述组一或多个片块中的每一组的所述测试强度值的每一平均值与所述参考强度值的平均值之间的差的多个图值。所述差强度图指示所述光罩是否已随着时间降级超过预定义水平。

主权项

1.一种检验光学光刻光罩的方法，所述方法包括：在于任何光学光刻过程中使用光罩之前，在第一检验期间使用光学光罩检验工具引导入射光束朝向所述光罩的多组一或多个片块区中的每一组，且随后响应于所述入射光束而测量来自每一片块区的多个子区的多个参考强度测量值；确定参考平均值，所述参考平均值由对来自每一组一或多个片块区中的每一片块区的所述多个子区的所述多个参考强度测量值求平均而来；在于多个光学光刻过程中使用所述光罩之后，在第二检验期间使用所述光学光罩检验工具引导入射光束朝向所述组一或多个片块区中的每一组，且随后响应于所述入射光束而测量来自每一片块区的多个子区的多个测试强度测量值；确定测试平均值，所述测试平均值由对来自每一组一或多个片块区中的每一片块区的所述多个子区的所述多个测试强度测量值求平均而来，其中针对所述第一检验及所述第二检验两者使用所述光学光罩检验工具的同一设置配方，从而用于每一片块区的所述测试平均值具有相同的位置并与用于所述光罩的这种相同片块区的所述参考平均值对准；及产生差强度图，并且在显示器上显示所述差强度图，所述差强度图包括各自对应于所述组一或多个片块区中的每一组的每一经对准参考平均值和测试平均值之间的差的多个图值，其中所述差强度图指示跨越所述光罩的强度的时间变化与空间变化两者。