[发明专利]一种增强型和耗尽型栅极器件同时制备的方法及器件

摘要

本发明公开一种增强型和耗尽型栅极器件同时制备的方法及器件，其中方法包括如下步骤：在外延片上制作源极和漏极金属；涂布第一光刻胶，并在增强型器件栅极底部上方开口；对增强型器件底部进行氟离子注入及热处理修复晶格；去除第一光刻胶，涂布第二光刻胶，并在增强型栅极底部和耗尽型栅极底部上方形成上宽下窄的开口；涂布第三光刻胶，并在增强型栅极底部和耗尽型栅极底部上方形成上窄下宽的开口；进行金属沉积，使得金属沉积在增强型栅极底部和耗尽型栅极底部，形成增强型栅极金属和耗尽型栅极金属；去除第二光刻胶和第三光刻胶。本发明的增强型和耗尽型栅极在同一道金属蒸镀工艺上进行，减少了一次金属蒸镀，节约了成本，同时提高性能。

主权项

1.一种增强型和耗尽型栅极器件同时制备的方法，其特征在于，包括如下步骤：在外延片上制作源极和漏极金属；涂布第一光刻胶，并在增强型器件栅极底部上方开口；对增强型器件底部进行氟离子注入及热处理修复晶格；去除第一光刻胶，涂布第二光刻胶，并在增强型栅极底部和耗尽型栅极底部上方形成上宽下窄的开口；涂布第三光刻胶，并在增强型栅极底部和耗尽型栅极底部上方形成上窄下宽的开口；进行金属沉积，使得金属沉积在增强型栅极底部和耗尽型栅极底部，形成增强型栅极金属和耗尽型栅极金属；去除第二光刻胶和第三光刻胶。