[发明专利]一种吡啶鎓离子修饰的近红外方酸染料及其制备与应用有效
| 申请号： | 201910190064.5 | 申请日： | 2019-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN109762364B | 公开（公告）日： | 2020-03-10 |
| 发明（设计）人： | 傅南雁;蒋晓雪 | 申请（专利权）人： | 福州大学 |
| 主分类号： | C09B57/00 | 分类号： | C09B57/00;C09K11/06;G01N21/64 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人： | 蔡学俊 |
| 地址： | 350108 福建省福州市闽*** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种吡啶鎓离子修饰的近红外方酸染料及其制备方法和应用，其是以吡啶鎓离子修饰的三甲基二氢吲哚衍生物和二氰乙烯基方酸衍生物为原料制得所述近红外方酸染料。该近红外方酸染料具有较好的稳定性及优异的光学性能，尤其是吡啶鎓离子基团可增强染料的水溶性。将该近红外方酸染料用于敌草快的检测时，敌草快分子可与染料分子相互作用，引发染料吸收光谱和荧光光谱的改变，从而可作为敌草快检测的荧光探针，用于环境中敌草快的荧光检测，并具有较好的检测灵敏度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 吡啶 离子 修饰 外方 染料 及其 制备 应用 | ||
【主权项】：
1.一种吡啶鎓离子修饰的近红外方酸染料，其特征在于：其结构式如下：![]()
。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福州大学，未经福州大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910190064.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：光学染料以及光学膜片
- 下一篇：一种去除辣椒红色素提取液异味的方法
