[发明专利]一种银或银合金的表面抛光处理工艺在审
申请号: | 201910190387.4 | 申请日: | 2019-03-13 |
公开(公告)号: | CN110091219A | 公开(公告)日: | 2019-08-06 |
发明(设计)人: | 林德谊;林明璟;林芯睿 | 申请(专利权)人: | 林德谊 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;B24B57/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 523000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种银或银合金的表面抛光处理工艺,包括如下步骤:第一步,配制抛光处理剂,抛光处理剂的组成成份重量比为:6.5%~10.5%的硝酸铁、0.9%~1.6%的硝酸溶液、13~21%的硫酸溶液和66.9%~79.6%的水,将硝酸铁用硝酸溶液稀按照上述重量比稀释后,再与硫酸溶液和水按照上述重量比混合均匀,制得抛光处理剂;第二步,将抛光处理剂和研磨辅料放入研磨机后,再放入将待抛光的银或银合金;第三步,银或银合金的表面在抛光处理剂的腐蚀作用下,再经过研磨辅料的摩擦作用,对银或银合金的表面进行抛光。采用本发明的抛光处理剂和处理工艺,银或银合金的表面抛光过程不需要人工干预,30分钟即完成表面抛光,具有省时省力的优点,抛光效率高,抛光成本低。 | ||
搜索关键词: | 抛光处理剂 银合金 重量比 表面抛光处理 表面抛光 硫酸溶液 硝酸溶液 研磨 硝酸铁 抛光 放入 处理工艺 摩擦作用 抛光成本 抛光效率 人工干预 研磨机 省时 稀释 省力 配制 腐蚀 | ||
【主权项】:
1.一种银或银合金的表面抛光处理工艺,包括如下步骤:第一步,配制抛光处理剂,抛光处理剂的组成成份重量比为:6.5%~10.5%的硝酸铁、0.9%~1.6%的硝酸溶液、13~21%的硫酸溶液和66.9%~79.6%的水,上述组成成份的重量比以克为单位,将硝酸铁用硝酸溶液稀按照上述重量比稀释后,再与硫酸溶液和水按照上述重量比混合均匀,制得抛光处理剂;第二步,将抛光处理剂和研磨辅料放入研磨机后,再放入将待抛光的银或银合金;第三步,银或银合金的表面在抛光处理剂的腐蚀作用下,再经过研磨辅料的摩擦作用,对银或银合金的表面进行抛光。
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