[发明专利]一种无公害苦瓜栽培方法在审
| 申请号： | 201910194140.X | 申请日： | 2019-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN109717019A | 公开（公告）日： | 2019-05-07 |
| 发明（设计）人： | 高红霞;杨皓琼;王蕾;陈祖平;周谟兵;施先锋;宋奎林;黄钧;胡江勇;马婷 | 申请（专利权）人： | 武汉市农业科学院 |
| 主分类号： | A01G22/05 | 分类号： | A01G22/05;A01C1/00;A01C1/08;A01G24/10;A01G24/20;A01G24/30 |
| 代理公司： | 北京同辉知识产权代理事务所(普通合伙) 11357 | 代理人： | 刘洪勋 |
| 地址： | 430345 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种无公害苦瓜栽培方法，涉及蔬菜种植领域，该方法包括以下步骤：挑选饱满、无破损和无病斑的苦瓜种子放置在温度为50～65℃、pH值为8～9.5的氢氧化钠溶液中，导入二氧化碳气体搅拌至温度为低于35℃后洗净；将洗净的种子加入水中，向水中加入抗菌材料保温1～2h，抗菌材料包括壳体结构，壳体结构中包裹有杀菌剂和气体释放载体，杀菌剂包括腐殖质；将洗净的种子恒温催芽，待种子破衣后，移至育苗床上进行育苗；待种苗生长至3～4叶进行移栽，并在移栽后搭设爬藤架。本发明能够降低农药的使用，增加苦瓜的经济价值，比较安全。 | ||
| 搜索关键词： | 苦瓜 洗净 抗菌材料 壳体结构 杀菌剂 水中 移栽 无公害 二氧化碳气体 氢氧化钠溶液 腐殖质 栽培 苦瓜种子 气体释放 蔬菜种植 种苗生长 育苗床 病斑 催芽 搭设 藤架 保温 破损 育苗 农药 安全 | ||
【主权项】：
1.一种无公害苦瓜栽培方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、挑选饱满、无破损和无病斑的苦瓜种子放置在温度为50～65℃、pH值为8～9.5的氢氧化钠溶液中，导入二氧化碳气体搅拌至温度为低于35℃后洗净；S2、将洗净的种子加入温度为25～35℃、pH为6～8的水中，向水中加入抗菌材料保温1～2h，所述抗菌材料与苦瓜种子的质量比为0.002～0.008，所述抗菌材料包括一壳体结构，壳体结构中包裹有杀菌剂和气体释放载体，所述杀菌剂包括腐殖质，所述壳体结构采用质量比为1:0.1～1:0.001～0.005的壳聚糖、明胶和脂质体构成；S3、将洗净的种子放在温度为30～35℃、湿度为60～80％的条件下恒温催芽，待种子破衣后，调整温度至24～25℃、湿度为40～60％，待种芽生长至0.3～0.7cm，移至育苗床上进行育苗；S4、待种苗生长至3～4叶进行移栽，并在移栽后搭设爬藤架。
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