[发明专利]用以产生包含布线配置的布局图的方法在审

专利信息
申请号: 201910197438.6 申请日: 2019-03-15
公开(公告)号: CN110276088A 公开(公告)日: 2019-09-24
发明(设计)人: 张丰愿;刘钦洲;庄惠中;徐孟楷;苏品岱;黄博祥;郑仪侃;卢麒友;蔡荣洲 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 龚诗靖
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 本揭露涉及用以产生包含布线配置的布局图的方法。一种方法(在具有多个掩模的多图案化使用情境中产生布线配置的布局图,所述布局图存储在非暂时性计算机可读媒体上)包含:相对于所述掩模中的给定的一个掩模,在金属化层中的给定导电图案的对应部分上方的第一候选位置处放置给定切割图案;确定所述第一候选位置是否导致违反设计规则的非圆形群或循环群中的至少一个;且如果存在违规,则临时防止在所述金属化层中在所述第一候选位置处放置所述给定切割图案直到进行校正为止,以避免违反所述设计规则。
搜索关键词: 布局图 布线配置 候选位置 掩模 金属化层 切割图案 设计规则 非暂时性计算机 导电图案 可读媒体 非圆形 图案化 循环群 违规 校正 违反 存储
【主权项】:
1.一种在具有多个掩模的多图案化使用情境中产生布线配置的布局图的方法,所述布局图存储在非暂时性计算机可读媒体上,所述方法包括:相对于所述掩模中的给定的一个掩模,在金属化层中的给定导电图案的对应部分上方的第一候选位置处放置给定切割图案;确定所述第一候选位置是否导致违反设计规则的非圆形群或循环群中的至少一个;以及暂时阻止在所述金属化层中在所述第一候选位置处放置所述给定切割图案直到进行校正为止,以避免违反所述设计规则。
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