[发明专利]原子腔结构及其制作方法在审
| 申请号： | 201910202733.6 | 申请日： | 2019-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN111717883A | 公开（公告）日： | 2020-09-29 |
| 发明（设计）人： | 姜春宇;王逸群;张宝顺;翟豪 | 申请（专利权）人： | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
| 主分类号： | B81B7/02 | 分类号： | B81B7/02;B81C1/00 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰 |
| 地址： | 215123 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种原子腔结构，所述原子腔结构包括：基片，具有封闭的腔；至少三组反射结构，所述反射结构设置于所述腔的内壁上，所述反射结构至少用于对射入所述腔内的相应的第一光线进行反射，从而使所有的所述第一光线与射入所述腔内的第二光线在所述腔内正交后射出所述腔外。本发明还提供了上述原子腔结构的制作方法。本发明的原子腔结构可应用在原子核磁共振陀螺仪、原子磁强计等原子物理系统中。 | ||
| 搜索关键词： | 原子 结构 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
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