[发明专利]一种全抛釉陶瓷砖及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910208140.0 申请日: 2019-03-19
公开(公告)号: CN109761648A 公开(公告)日: 2019-05-17
发明(设计)人: 余海龙;沈荣伟;邓兴智;曾绍雄;辛大廷 申请(专利权)人: 重庆唯美陶瓷有限公司;东莞市唯美陶瓷工业园有限公司
主分类号: C04B41/89 分类号: C04B41/89;C03C8/00
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 代理人: 王永文;刘文求
地址: 402460*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明公开一种全抛釉陶瓷砖及其制备方法。所述全抛釉陶瓷砖由下至上包括:坯体层、底釉层、印花层、全抛釉层;所述全抛釉层以质量份数计包括以下原料组成:钾长石5~20份,钠长石30~60份,方解石4~15份,高岭土6~12份,煅烧氧化锌0~6份,石英2~10份,煅烧土2~8份,硅酸锆2~10份,甲基0.1~0.3份,三聚0.3~0.6份。本发明具有以下好处:采用全生料配方,降低生产成本;改善浅色或白色全抛釉与底釉结合后发黄的问题,提升产品的档次;提高浅色或白色全抛釉的白度,提升浅色或白色全抛釉在市场中的竞争力。同时本发明还可提高产品耐磨级别和耐腐蚀能力。
搜索关键词: 浅色 瓷砖 全抛釉层 制备 方解石 高岭土 煅烧氧化锌 生料配方 原料组成 底釉层 硅酸锆 钾长石 钠长石 耐腐蚀 坯体层 印花层 质量份 耐磨 石英 白度 底釉 发黄 三聚 煅烧
【主权项】:
1.一种全抛釉陶瓷砖,其特征在于,其由下至上包括:坯体层、底釉层、印花层、全抛釉层;所述全抛釉层以质量份数计包括以下原料组成:钾长石5~20份,钠长石30~60份,方解石4~15份,高岭土6~12份,煅烧氧化锌0~6份,石英2~10份,煅烧土2~8份,硅酸锆2~10份,甲基0.1~0.3份,三聚0.3~0.6份。
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