[发明专利]光掩模、光掩模的制造方法和电子器件的制造方法

摘要

本发明提供光掩模、其制造方法、光掩模坯体、电子器件的制造方法，防止静电破坏的产生。光掩模(10)具有：转印用图案(35)，其在透明基板(21)的主表面上对光学膜进行图案化而形成；以及透光环状部(33)，其包围所述转印用图案(35)的外周；以及外周区域(31)，其包围所述透光环状部(33)的外周。在所述外周区域(31)中，在所述透明基板(21)上形成有透明导电膜(25)，并且，在所述透明导电膜(25)上形成有对所述光学膜进行图案化而成的标记图案。

主权项

1.一种光掩模，其在透明基板的主表面上具有：转印用图案，其是对光学膜进行图案化而形成的；透光环状部，其包围所述转印用图案的外周；以及外周区域，其包围所述透光环状部的外周，在所述外周区域中，在所述主表面上层叠有透明导电膜和对所述光学膜进行图案化而成的标记图案。