[发明专利]双参量传感器及其制造方法、双参量感测系统有效
申请号: | 201910211494.0 | 申请日: | 2019-03-20 |
公开(公告)号: | CN109900381B | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | 付剑波;吴海龙;但艺;毛大龙;周焱;朱海鹏;韩燕淋;冉敏;梁鹏 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G01K11/3206 | 分类号: | G01K11/3206;G01L1/24 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 杨广宇 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本申请公开了一种双参量传感器及其制造方法、双参量感测系统,属于传感器技术领域。双参量传感器包括:柔性基底以及设置在柔性基底上的至少一个传感组件;传感组件包括第一光波导、光栅结构和薄膜晶体管,光栅结构设置在薄膜晶体管远离柔性基底的一侧,光栅结构设置在第一光波导的出光侧;薄膜晶体管被配置为输出源漏电流,以根据源漏电流确定双参量传感器的输出电流,根据输出电流的变化量确定温度的变化量;光栅结构被配置为根据第一光波导传导至光栅结构的光线产生反射光,以根据反射光的特征波长的变化量和温度的变化量确定应力的变化量。本申请能够提高双参量传感器的测量的准确性。本申请用于温度和应力的测量。 | ||
搜索关键词: | 参量 传感器 及其 制造 方法 系统 | ||
【主权项】:
1.一种双参量传感器,其特征在于,所述双参量传感器包括:柔性基底以及设置在所述柔性基底上的至少一个传感组件;所述传感组件包括第一光波导、光栅结构和薄膜晶体管,所述光栅结构设置在所述薄膜晶体管远离所述柔性基底的一侧,所述光栅结构设置在所述第一光波导的出光侧;所述薄膜晶体管被配置为输出源漏电流,以根据所述源漏电流确定所述双参量传感器的输出电流,根据所述输出电流的变化量确定温度的变化量;所述第一光波导被配置为将射入所述第一光波导的光线传导至所述光栅结构,所述光栅结构被配置为根据传导至所述光栅结构的光线产生反射光,以根据所述反射光的特征波长的变化量和所述温度的变化量确定应力的变化量。
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