[发明专利]衬底处理设备和方法在审
| 申请号： | 201910211553.4 | 申请日： | 2019-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN110323156A | 公开（公告）日： | 2019-10-11 |
| 发明（设计）人： | D·皮埃罗;C·T·赫布施莱布;W·克纳彭;B·琼布洛德;S·范阿尔德;K·胡本;T·奥斯特拉肯;C·德里德;L·吉迪拉 | 申请（专利权）人： | ASMIP控股有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/687 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 丁晓峰 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种衬底处理设备，其包括反应室，所述反应室被设置有用于将多个衬底固持在所述反应室中的衬底架。所述衬底架可具有多个间隔开的衬底固持装置，所述衬底固持装置被配置成固持所述多个衬底。所述设备可具有照明系统，所述照明系统被构造和布置成将具有100到500纳米的范围的辐射辐照到所述衬底的顶表面上。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 反应室 衬底处理设备 固持装置 照明系统 衬底架 固持 辐照 顶表面 辐射 配置 | ||
【主权项】：
1.一种衬底处理设备，其包括：反应室；以及衬底架，其用于在所述反应室中提供多个衬底，所述衬底架包括多个间隔开的衬底固持装置，所述衬底固持装置被配置成以间隔开的关系固持所述多个衬底，其中所述设备包括照明系统，所述照明系统被构造和布置成将在100到500纳米的范围内的紫外辐射从所述衬底架的一侧辐照到所述衬底架中的所述衬底中的至少一个衬底的顶表面上。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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