[发明专利]在衬底上形成图案的方法有效
| 申请号： | 201910213412.6 | 申请日： | 2019-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN111724816B | 公开（公告）日： | 2023-09-22 |
| 发明（设计）人： | 李泰文;杨拥平 | 申请（专利权）人： | 新科实业有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/265 | 分类号： | G11B5/265;G11B5/31;G11B5/84 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫 |
| 地址： | 中国香港新界沙田香*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种在衬底上形成图案的方法，包括如下步骤：(1)提供一透光载体，在透光载体的表面铺设固定带；(2)将一衬底的第一表面固定在固定带上；(3)在衬底的第二表面附着一光刻胶层，第一表面与第一表面相对；(4)自透光载体至光刻胶层的方向进行曝光，从而在光刻胶层上形成保留区域和可去除区域；(5)显影光刻胶层从而除去可去除区域，光刻胶层的保留区域构成待光刻图案；(6)蚀刻衬底的第二表面以除去部分衬底材料和光刻胶材料，从而形成光刻图案。该在衬底上形成图案的方法利用光的边界效应限定出需要刻蚀的图案的边界范围，简化了其制造过程且降低了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 形成 图案 方法 | ||
【主权项】：
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