[发明专利]一种双面对准的视觉系统及对准方法有效
申请号: | 201910213737.4 | 申请日: | 2019-03-20 |
公开(公告)号: | CN109950191B | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 程海林 | 申请(专利权)人: | 纳研科技(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68;G03F9/00 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 陶金龙;尹一凡 |
地址: | 201318 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种双面对准的视觉系统,用于实现空间上相对的两个被测物的对准功能,包括:相对的两个调整台,所述调整台相对的两个面上放置被测物A和被测物B;其中,所述被测物A和被测物B含有图形或者外形特征;对准测量单元,包括反射组件、转像组件、分光组件、成像前组、分束组件、成像后组、照明组件和光电转换组件;显示单元,用于将被测物A和被测物B对准之后的图形显示出来。本发明提供的一种双面对准的视觉系统及对准方法,提高了光能利用率和成像对比度,进而提高了对位精度;保证了空间上两面成镜像关系的被测物图形或外形特征能够成像重合于同一光电转换组件上;同时提高了被测物的对位效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 双面 对准 视觉 系统 方法 | ||
【主权项】:
1.一种双面对准的视觉系统,用于实现空间上相对的两个被测物的对准功能,其特征在于,包括:相对的两个调整台,所述调整台相对的两个面上放置被测物A和被测物B;其中,所述被测物A和被测物B相对的表面上具有可用于视觉成像的图形或者外形特征;对准测量单元,包括反射组件、转像组件、分光组件、成像前组、分束组件、成像后组、照明组件和光电转换组件;其中,所述反射组件位于所述被测A和被测物B之间,所述分光组件位于所述反射组件的一侧,所述转像组件位于所述反射组件和分光组件之间,且位于其中一个被测物的光路上,所述成像前组位于所述分光组件的另一侧,所述成像前组远离分光组件的一侧依次为分束组件、成像后组和光电转换组件,所述照明组件发射的入射光依次经过所述分束组件和成像前组进入所述分光组件中被分为两个方向上的入射光,两个方向上的入射光分别经过反射组件到达被测物A和被测物B;从而使得被测物A和被测物B上的图形或者外形特征分别经过反射组件、分光组件、成像前组、分束组件和成像后组成像于所述光电转换组件上,并重叠显示在所述显示单元上,其中一个被测物上的图形或者外形特征经过所述反射组件和转像组件后被翻转180度,从而使得被测物A和被测物B中的图形或者外形特征在显示单元上重合;显示单元,用于将被测物A和被测物B对准之后的图形或外形特征显示出来。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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