[发明专利]暖机方法和基片的刻蚀方法有效

专利信息
申请号: 201910216389.6 申请日: 2019-03-21
公开(公告)号: CN111725044B 公开(公告)日: 2023-08-18
发明(设计)人: 张君 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;张天舒
地址: 100176 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种暖机方法,以及采用该暖机方法使腔室达到工艺所需的工作状态的一种基片的刻蚀方法。该暖机方法包括步骤S1:对光胶片进行第一刻蚀,以将生成的聚合物覆盖在暴露于腔室内的工艺环境中的部件表面;步骤S2:对光胶片进行第二刻蚀,用于在暴露于腔室内的工艺环境中的石英盖表面增加聚合物。通过在第一刻蚀步骤的基础上增加第二刻蚀步骤,可以在石英盖表面沉积一层较厚的致密的聚合物,从而使得在后续对基片进行刻蚀的工艺中,石英盖表面覆盖的聚合物颗粒不容易掉落,避免在基片上造成颗粒缺陷,提高产品的良率。
搜索关键词: 方法 刻蚀
【主权项】:
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