[发明专利]薄膜发光材料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910216525.1 申请日: 2019-03-21
公开(公告)号: CN110016342A 公开(公告)日: 2019-07-16
发明(设计)人: 年洪恩;李翔;任秀峰;曾金波 申请(专利权)人: 中国科学院青海盐湖研究所
主分类号: C09K11/78 分类号: C09K11/78
代理公司: 北京方安思达知识产权代理有限公司 11472 代理人: 陈琳琳;李彪
地址: 810008*** 国省代码: 青海;63
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摘要: 发明提供了一种薄膜发光材料及其制备方法,所述薄膜发光材料的组成为Y1‑xTbxBO3、Y1‑xCexBO3、Y0.90‑xLixBO3‑δ:Tb0.10或Y0.90‑2xLixMgxBO3‑δ:Ce0.10。本发明通过溶胶‑凝胶法以及改进硼酸钇和掺杂金属离子的比例,制备获得了结晶度高、发光性能良好的薄膜材料,具备设备简单、工艺简易、成本低、反应温度低以及化学成分易于控制的优势。
搜索关键词: 薄膜发光材料 制备 掺杂金属离子 薄膜材料 发光性能 结晶度 凝胶法 硼酸钇 简易 改进
【主权项】:
1.一种薄膜发光材料,其特征在于,所述薄膜发光材料的组成为Y1‑xTbxBO3、Y1‑xCexBO3、Y0.90‑xLixBO3‑δ:Tb0.10或Y0.90‑2xLixMgxBO3‑δ:Ce0.10,当薄膜发光材料组成为Y1‑xTbxBO3或Y1‑xCexBO3时,x取值范围为0.05‑0.15;当薄膜发光材料组成为Y0.90‑xLixBO3‑δ:Tb0.10时,x取值范围为0.01‑0.05,δ取值范围为0或1;当薄膜发光材料组成为Y0.90‑2xLixMgxBO3‑δ:Ce0.10时,x取值范围为0.05‑0.15,δ取值范围为0或1;且所述薄膜发光材料中含有纳米晶,纳米晶的尺寸为60‑400nm,空隙占比为5‑15%,表面粗糙度为5‑40nm。
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