[发明专利]一种铜或铜合金的表面抛光处理工艺在审
| 申请号： | 201910217587.4 | 申请日： | 2019-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN110064973A | 公开（公告）日： | 2019-07-30 |
| 发明（设计）人： | 林德谊;林明璟;林芯睿 | 申请（专利权）人： | 林德谊 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B1/04;B24C1/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 523000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种铜或铜合金的表面抛光处理工艺，包括如下步骤：第一步，配制抛光处理剂，抛光处理剂的组成成份重量比为：3%～7%的三氯化铁、17～25%的硫酸溶液和68%～80%的水，上述组成成份的重量比以克为单位，将三氯化铁与硫酸溶液和水按照上述重量比混合均匀，制得抛光处理剂；第二步，将抛光处理剂和研磨辅料放入研磨机后，再放入将待抛光的铜或铜合金；第三步，铜或铜合金的表面在抛光处理剂的腐蚀作用下，再经过研磨辅料的摩擦作用，对铜或铜合金的表面进行抛光。采用本发明的抛光处理剂和处理工艺，铜或铜合金的表面抛光过程不需要人工干预，30分钟即完成表面抛光，具有省时省力的优点，抛光效率高，抛光成本低。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光处理剂 铜合金 重量比 表面抛光处理 表面抛光 硫酸溶液 三氯化铁 研磨 抛光 放入 处理工艺 摩擦作用 抛光成本 抛光效率 人工干预 研磨机 省时 省力 配制 腐蚀 | ||
【主权项】：
1.一种铜或铜合金的表面抛光处理工艺，包括如下步骤：第一步，配制抛光处理剂，抛光处理剂的组成成份重量比为：3%～7%的三氯化铁、17～25%的硫酸溶液和68%～80%的水，上述组成成份的重量比以克为单位，将三氯化铁与硫酸溶液和水按照上述重量比混合均匀，制得抛光处理剂；第二步，将抛光处理剂和研磨辅料放入研磨机后，再放入将待抛光的铜或铜合金；第三步，铜或铜合金的表面在抛光处理剂的腐蚀作用下，再经过研磨辅料的摩擦作用，对铜或铜合金的表面进行抛光。
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