[发明专利]激光产生等离子体EUV光源中的源材料输送的设备和方法

摘要

本发明涉及激光产生等离子体EUV光源中的源材料输送的设备和方法。公开了气体被引起与源材料的流动平行地流动以形成气体罩的装置和方法。气体罩可以保护源材料的流动以免被气体的横流破坏。气体罩还可以通过使源材料的辐照期间所形成的等离子体泡变形使得等离子体泡不会太接近物理罩来限制源材料所通过的物理罩的发热并且限制源材料在物理罩上的积聚。装置和方法还公开用于建立气体的附加横穿流动，使得气体罩不会引起用于收集源材料的辐照期间所生成的光的光学器件的源材料污染。

主权项

1.一种装置，包括：室，在内部具有辐照区域；EUV光学器件，具有中央孔径；第一气体输送系统，与所述室的内部流体连通并且适于引起气体穿过所述中央孔径并朝向流流动；源材料输送系统，具有在所述室内的源材料释放点并且适于将源材料的流沿着所述源材料释放点与所述辐照区域之间的路径输送至所述辐照区域，所述源材料输送系统包括固体罩，所述固体罩从所述源材料释放点开始并且平行于所述路径延伸至固体罩端部以保护所述流的至少一部分；和第二气体输送系统，与所述室的所述内部流体连通并且适于引起气体在所述室中沿着所述路径的至少一部分流动。