[发明专利]碳化硅半导体构件在审

专利信息
申请号: 201910221793.2 申请日: 2019-03-22
公开(公告)号: CN110299399A 公开(公告)日: 2019-10-01
发明(设计)人: R.鲁普;L.维尔哈恩-基利安;B.齐佩柳斯 申请(专利权)人: 英飞凌科技股份有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/861;H01L29/872
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 宣力伟;李雪莹
地址: 德国瑙伊比*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 半导体构件(500)具有SiC半导体本体(100)。在所述SiC半导体本体(100)中构造有第一导电型的漂移区(131)和半导体区域(120、140)。从半导体区域(120、140)延伸到漂移区(131)中的屏障结构(180)和栅结构(150)不同。
搜索关键词: 半导体本体 半导体区域 漂移区 碳化硅半导体 半导体构件 屏障结构 导电型 栅结构 延伸
【主权项】:
1.半导体构件,该半导体构件具有:SiC半导体本体(100),在所述SiC半导体本体中构造有第一导电型的漂移区(131)和半导体区域(120、140);栅结构(150);以及屏障结构(180),所述屏障结构从所述半导体区域(120、140)延伸到所述漂移区(131)中,其中所述屏障结构(180)和所述栅结构(150)不同。
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