[发明专利]一种光反射少的黑硅表面涂层及其制备方法在审
| 申请号： | 201910222789.8 | 申请日： | 2019-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN111715468A | 公开（公告）日： | 2020-09-29 |
| 发明（设计）人： | 何其金;张靖;何飞 | 申请（专利权）人： | 江苏德润光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B05C3/09 | 分类号： | B05C3/09;B05C11/10;B05C9/12;B05D1/18;B05D3/04 |
| 代理公司： | 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 | 代理人： | 艾秀丽 |
| 地址： | 225600 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了黑硅技术领域的一种光反射少的黑硅表面涂层，包括涂抹装置，所述静置槽的内腔底部设置有滤板，两组所述侧面板的前后端面均通过横向设置的横向挡杆固定连接，所述滤板的顶部从左至右依次均匀设置有隔板，所述侧面板高于涂抹装置的顶部平面，所述侧面板的顶部均设置有拉手，所述扇叶的位置对应静置槽设置；蓄液槽中倒入可减少反光的液体材料，然后将黑硅放入到蓄液槽中，使黑硅的覆盖一层可减少反光的涂层，这样即可减少光反射，而同时设置了晾干架，与风机，来加快黑硅表现液体的干化速度，加快工作效率，同时设置了检测槽，在检测槽内设置了两组LED灯，通过LED灯的灯光照射，可对加工好的黑硅进行简单的检测。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反射 表面 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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