[发明专利]一种使用溶液催化剂制备碳纳米管阵列的方法在审
| 申请号： | 201910226660.4 | 申请日： | 2019-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN109734075A | 公开（公告）日： | 2019-05-10 |
| 发明（设计）人： | 汪小知;张亮;吴永志 | 申请（专利权）人： | 杭州英希捷科技有限责任公司 |
| 主分类号： | C01B32/162 | 分类号： | C01B32/162 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 林超 |
| 地址： | 311215 浙江省杭州市萧山经济*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种使用溶液催化剂制备碳纳米管阵列的方法。将一平滑基底放入等离子体发生器中对平滑基底的表面用等离子体进行亲水处理；然后把基底取出后，在表面滴上配置后的催化剂溶液，再用匀胶机旋涂均匀；最后烘干后把基底放入反应腔内通入反应气体在一定温度条件下采用化学气相沉积法使碳纳米管阵列从基底上长出。本发明方法制备出的碳纳米管阵列表面干净平滑，表面密度高，工序简单，并且制备成本非常低，适合工业化量产。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 平滑 碳纳米管阵列 溶液催化剂 制备碳纳米 放入 制备 等离子体 等离子体发生器 化学气相沉积 催化剂溶液 反应气体 亲水处理 温度条件 反应腔 匀胶机 烘干 把基 后把 量产 旋涂 取出 配置 | ||
【主权项】：
1.一种使用溶液催化剂制备碳纳米管阵列的方法，其特征在于：方法包括以下步骤：将一平滑基底放入等离子体发生器中对平滑基底的表面用等离子体进行亲水处理；然后把基底取出后，在表面滴上配置后的催化剂溶液，再用匀胶机旋涂均匀；最后烘干后把基底放入反应腔内通入反应气体在一定温度条件下采用化学气相沉积法使碳纳米管阵列从基底上长出。
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