[发明专利]极紫外光设备及防止极紫外光光源装置被污染的方法有效
| 申请号： | 201910227714.9 | 申请日： | 2019-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN110412834B | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | 吴明发;傅中其;林俊泽;郑博中;杨怀德 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 黄艳 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本公开涉及极紫外光设备及防止极紫外光光源装置被污染的方法。一种极紫外光微影系统，包括极紫外光光源及极紫外光扫描器。微滴产生器在极紫外光光源中提供微滴流。气体屏障是配置以包围微滴流。当激光与流中的微滴反应时，制造极紫外光辐射及离子化粒子。气体屏障可减少传送离子化粒子至微滴捕捉器的污染。极紫外光光源的构件可用电压偏压，以排斥或吸引离子化粒子，进而减少来自于这些离子化粒子的污染。 | ||
| 搜索关键词： | 紫外光 设备 防止 光源 装置 污染 方法 | ||
【主权项】：
1.一种防止极紫外光光源装置被污染的方法，包括：在一极紫外光光源装置内由一微滴产生器制造一微滴流，该微滴流包括一第一材料；提供一气体屏障在该微滴流周围；以及在提供该气体屏障的同时，发出一激光以蒸发来自该微滴流的一微滴，以制造极紫外光辐射以及该第一材料的粒子，其中该第一材料的所述粒子通过该气体屏障被引导至一微粒捕捉器。
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