[发明专利]半导体结构及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201910227977.X 申请日: 2019-03-25
公开(公告)号: CN111293044A 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 蔡宏奇 申请(专利权)人: 南亚科技股份有限公司
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60;H01L21/768;H01L23/48;H01L23/488;H01L23/528
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 聂慧荃;闫华
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 本申请涉及一种半导体结构及其制造方法。该半导体结构包括一第一第二半导体层与一第二半导体层、以及一第一连结导体、一第二连结导体与一第三连结导体。该第二半导体层设于该第一半导体层之上。该第一连结导体设于该第一半导体层之上。该第二连结导体设于该第二半导体层之上。该第三连结导体包括由该第一连结导体与该第二连结导体形成的一硅化物材料。
搜索关键词: 半导体 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
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