[发明专利]一种高功率激光焊接窗口片膜系镀制工艺在审
| 申请号： | 201910232180.9 | 申请日： | 2019-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN110007374A | 公开（公告）日： | 2019-07-12 |
| 发明（设计）人： | 聂旭光;林喜锋;付小燕 | 申请（专利权）人： | 上海域申光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10 |
| 代理公司： | 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 31297 | 代理人： | 赵朋晓 |
| 地址： | 201816 上海市嘉*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及膜系设计技术领域，特别是涉及一种高功率激光焊接窗口片膜系镀制工艺，包括：步骤一、对高功率激光焊接窗口片进行膜系参数设计，膜系参数包括：膜层数、膜层材料以及膜层材料的工具因子；膜层数为2n，其中n为正整数；单数层的膜层材料为二氧化铪，双数层的膜层材料为二氧化硅；二氧化铪的工具因子为125～130％，二氧化硅的工具因子为94～98％；步骤二、根据设计的膜系参数，采用真空镀膜的方式在基片上进行膜系镀制，得到高功率激光焊接窗口片。本发明解决现有技术中高功率激光膜波长穿透力不强、抗激光损伤阈值不高的问题，提供的镀膜工艺其膜系设计合理，提高了窗口片的穿透率、波长的穿透率、抗激光损伤阈值。 | ||
| 搜索关键词： | 膜系 高功率激光 焊接窗口 膜层材料 镀制 抗激光损伤 二氧化硅 二氧化铪 穿透率 膜层数 片膜 设计技术领域 波长穿透力 参数设计 镀膜工艺 真空镀膜 中高功率 窗口片 单数层 激光膜 双数层 正整数 波长 | ||
【主权项】：
1.一种高功率激光焊接窗口片膜系镀制工艺，其特征在于，包括如下步骤：步骤一、对高功率激光焊接窗口片进行膜系参数设计，膜系参数包括：膜层数、膜层材料以及膜层材料的工具因子；膜层数为2n，其中n为正整数；单数层的膜层材料为二氧化铪，双数层的膜层材料为二氧化硅；二氧化铪的工具因子为125～130％，二氧化硅的工具因子为94～98％；步骤二、根据设计的膜系参数，采用真空镀膜的方式在基片上进行膜系镀制，得到高功率激光焊接窗口片。
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