[发明专利]一种用于降低LED晶圆曲翘度的工艺制造方法在审

专利信息
申请号: 201910232930.2 申请日: 2019-03-26
公开(公告)号: CN109950373A 公开(公告)日: 2019-06-28
发明(设计)人: 邹微微;徐洲;杭伟;靳闪闪 申请(专利权)人: 扬州乾照光电有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/12;H01L33/10;H01L33/36;H01L33/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王宝筠
地址: 225101*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供了一种用于降低LED晶圆曲翘度的工艺制造方法,该工艺制造方法相比较传统的制造工艺而言,先进行切割后进行研磨,确保研磨过程中的应力得到有效释放,进而降低产品曲翘度。传统的制造工艺的晶圆片曲翘度为15mm,而本申请的制造方法可以使晶圆片的曲翘度降低至7mm,有效的将产品的曲翘度降低约50%,极大程度的降低了后续制造工艺的难度,提升了产品的良品率,降低产品成本。并且,在第一次半切割过程中,依据厚度选用合适的刀高,可以避免研磨过程中破片的风险。
搜索关键词: 曲翘度 工艺制造 制造工艺 研磨 传统的 晶圆片 产品成本 有效释放 半切割 良品率 破片 切割 申请 制造
【主权项】:
1.一种用于降低LED晶圆曲翘度的工艺制造方法,其特征在于,所述工艺制造方法包括:提供一衬底;在所述衬底上生长外延层,所述外延层为在第一方向上依次生长的缓冲层、DBR反射层、N型限制层、MQW量子阱有源层、P型限制层和P型窗口层,其中,所述第一方向垂直于所述衬底,且由所述衬底指向所述缓冲层;在所述P型窗口层背离所述P型限制层的一侧设置P电极;设置保护层,所述保护层覆盖所述外延层和所述P电极;测量所述P电极与所述衬底之间的厚度;依据所述厚度,确定刀高从所述P电极开始进行第一次半切割,且至少切穿所述MQW量子阱有源层;对所述衬底进行减薄处理;在所述衬底背离所述外延层的一侧设置N电极;去除所述保护层;沿着所述第一次半切割的痕迹,进行第二次切割,且切穿所述N电极,以形成单个的LED芯粒。
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