[发明专利]用光学厚度监测系统管理涂层均匀性的方法

摘要

本发明的主题是一种在物理气相沉积系统中管理衬底上的涂覆厚度的方法。所述方法应用于包括多光束激光监测系统和具有多掩模组的均匀性控制系统的所述系统。所述方法包括以下步骤：计算穿过涂层的激光透射率的误差函数，基于误差函数与预定常数之间的比较来停止沉积过程，比较所有激光束之间的沉积速率，识别具有不同沉积速率的涂层区域，调整多掩模组以在下一沉积过程中改变该涂层区域上的沉积速率，并恢复下一涂层的沉积过程，直到实现均匀涂覆厚度。

主权项

1.一种在涂覆系统中管理衬底上的涂层厚度均匀性的方法，包括：使用包括多掩模组的均匀性控制系统和具有激光器阵列和探测器阵列的多光束光学监测系统，基于穿过沉积过程中在所述衬底上形成的所述涂层的所有激光束的激光透射率计算误差函数；将所有激光束的所述误差函数的值与一个预定的恒定值进行比较；当所有激光束的所述误差函数的值小于或等于所述恒定值时，停止所述沉积过程；当所述沉积过程停止时，在所述光学监测系统中计算每个激光束的误差函数；通过绘制每个激光束的误差函数值相对于所述沉积过程的时间的曲线来计算每个激光束的沉积速率；选择具有与其他激光束不同的沉积速率的激光束，并识别所述激光束通过的所述涂层的特定区域；调整所述多掩模组，使其影响所述涂层的所述特定区域上的沉积过程，以便令所述特定区域具有合适的沉积速率；在所述多掩模组的调整下，恢复下一个沉积过程以形成下一个涂层。