[发明专利]一种阵列基板、其制作方法及显示装置有效

专利信息
申请号: 201910242276.3 申请日: 2019-03-28
公开(公告)号: CN109801569B 公开(公告)日: 2020-07-28
发明(设计)人: 刘清召;王国强 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G09F9/33 分类号: G09F9/33;H01L27/32;G06K9/00
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 郭润湘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种阵列基板、其制作方法及显示装置,该阵列基板包括:衬底基板,位于衬底基板上的多个顶发射型发光器件,位于发光器件与衬底基板之间的感光器件,以及位于感光器件与发光器件之间的折射层;折射层与感光器件具有设定距离,折射层至少覆盖各发光器件之间的间隙区域,折射层的折射率大于间隙区域内折射层靠近衬底基板一侧相邻膜层的折射率;感光器件在衬底基板上的正投影与发光器件在衬底基板上的正投影至少部分重叠。通过在发光器件之间设置高折射率的折射层可以使外界反射光能够照射更大的面积,从而可以将部分感光器件设置在发光器件所在区域,即增大了感光器件接收光的面积,从而可以提高感光器件输出信号的强度。
搜索关键词: 一种 阵列 制作方法 显示装置
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,包括衬底基板,位于所述衬底基板上的多个顶发射型发光器件,位于所述发光器件与所述衬底基板之间的感光器件,以及位于所述感光器件与所述发光器件之间的折射层;所述折射层与所述感光器件具有设定距离,所述折射层至少覆盖各所述发光器件之间的间隙区域,所述折射层的折射率大于所述间隙区域内所述折射层靠近所述衬底基板一侧相邻膜层的折射率;所述感光器件在所述衬底基板上的正投影与所述发光器件在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠。
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