[发明专利]硼系膜的成膜方法和成膜装置

摘要

本发明提供一种硼系膜的成膜方法和成膜装置，能够得到具有适合作为硬掩膜的特性的硼系膜。一种硼系膜的成膜方法，用于在基板上形成以硼为主体的硼系膜，包括以下工序：第一工序，将基板搬入到成膜装置的腔室内，该成膜装置用于通过利用电容耦合等离子体的等离子体CVD来形成硼系膜；第二工序，向腔室内供给含有含硼气体的处理气体；第三工序，施加用于生成电容耦合等离子体的高频电力；以及第四工序，利用高频电力生成处理气体的等离子体，来在基板上形成硼系膜，其中，通过第三工序的高频电力的功率来调整硼系膜的膜应力。

主权项

1.一种硼系膜的成膜方法，用于在基板上形成以硼为主体的硼系膜，所述硼系膜的成膜方法包括以下工序：第一工序，将基板搬入到成膜装置的腔室内，所述成膜装置用于通过利用电容耦合等离子体的等离子体化学气相沉积来形成硼系膜；第二工序，向所述腔室内供给含有含硼气体的处理气体；第三工序，施加用于生成电容耦合等离子体的高频电力；以及第四工序，利用所述高频电力生成所述处理气体的等离子体，来在基板上形成所述硼系膜，其中，通过所述第三工序的高频电力的功率来调整所述硼系膜的膜应力。