[发明专利]具有栅极正交壁的单向自对准栅极端盖(SAGE)架构在审

专利信息
申请号: 201910250196.2 申请日: 2019-03-29
公开(公告)号: CN110323217A 公开(公告)日: 2019-10-11
发明(设计)人: W.M.哈夫茨;S.戈文达拉祖;M.刘;S.S.廖;简嘉宏;N.林德特;C.肯扬;S.苏布拉马尼安 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/088;H01L21/8234
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 姜冰;张金金
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 描述了具有栅极正交壁的单向自对准栅极端盖(SAGE)架构,以及制作具有栅极正交壁的单向自对准栅极端盖(SAGE)架构的方法。在示例中,集成电路结构包括第一半导体鳍,其具有沿第一半导体鳍的长度的切口。第二半导体鳍具有沿第二半导体鳍的长度的切口。栅极端盖隔离结构位于第一半导体鳍和第二半导体鳍之间。栅极端盖隔离结构具有沿第一和第二半导体鳍的长度的充分均匀的宽度。
搜索关键词: 半导体鳍 栅极端 正交壁 自对准 隔离结构 架构 集成电路结构 制作
【主权项】:
1.一种集成电路结构,包括:第一半导体鳍,所述第一半导体鳍具有沿所述第一半导体鳍的长度的切口;第二半导体鳍,所述第二半导体鳍具有沿所述第二半导体鳍的长度的切口;以及位于所述第一半导体鳍和所述第二半导体鳍之间的栅极端盖隔离结构,所述栅极端盖隔离结构具有沿所述第一和第二半导体鳍的所述长度的基本上均匀的宽度。
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