[发明专利]光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法

摘要

一种光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法，修正方法包括：选择任意一条第一待补偿边作为第一处理边；根据偏移补偿函数，获取第一处理边中各位置处的第一初始补偿量，第一初始补偿量具有第一补偿最小值和第一补偿最大值；获取第一处理边的第一目标补偿量，第一处理边中各位置处的第一目标补偿量相同，第一目标补偿量大于等于第一补偿最小值且小于等于第一补偿最大值；重复选择任意一条第一待补偿边作为第一处理边、获取第一初始补偿量和第一目标补偿量的步骤，直至获取到所有第一待补偿边的第一目标补偿量；根据第一待补偿边和第一目标补偿量获取光刻补偿图形；对光刻补偿图形进行OPC修正，得到修正图形。所述方法提高了修正精度和修正效率。

主权项

1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括：提供目标光刻图形，所述目标光刻图形包括若干第一类型子光刻图形；将第一类型子光刻图形分割为若干第一特征图形，所述第一特征图形具有第一待补偿边；提供偏移补偿函数；选择任意一条第一待补偿边作为第一处理边；根据偏移补偿函数，获取第一处理边中各位置处的第一初始补偿量，第一处理边中各位置处的第一初始补偿量具有第一补偿最小值和第一补偿最大值；获取第一处理边的第一目标补偿量，第一处理边中各位置处的第一目标补偿量相同，第一目标补偿量大于等于第一补偿最小值且小于等于第一补偿最大值；重复选择任意一条第一待补偿边作为第一处理边、获取第一处理边中各位置处的第一初始补偿量、以及获取第一处理边的第一目标补偿量的步骤，直至获取到所有第一待补偿边的第一目标补偿量；根据第一待补偿边和第一待补偿边的第一目标补偿量，获取目标光刻图形对应的光刻补偿图形；对光刻补偿图形进行OPC修正，得到修正图形。