[发明专利]一种离子束刻蚀系统有效

专利信息
申请号: 201910252699.3 申请日: 2019-03-29
公开(公告)号: CN109935513B 公开(公告)日: 2021-08-06
发明(设计)人: 胡冬冬;李娜;许开东;邱勇;车东晨;陈璐;陈兆超 申请(专利权)人: 江苏鲁汶仪器有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 北京得信知识产权代理有限公司 11511 代理人: 孟海娟;阿苏娜
地址: 221300 江苏省徐*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种离子束刻蚀系统,包括反应腔体,载片台,离子源,挡板及挡板驱动装置,所述挡板包括连接部和遮挡部,所述连接部与所述挡板驱动装置相连接,所述挡板在所述挡板驱动装置的作用下绕着驱动轴线在上下两个极限位置间进行旋转,所述驱动轴线与第一方向大致平行,所述遮挡部设置于所述离子源的栅网与所述载片台之间,当所述挡板位于上极限位置,离子束从离子源的栅网发射至遮挡部的表面,所述遮挡部将被离子束溅射出来的挡板材料反射到离子源的栅网以外的区域。本发明极大程度的减少了被离子束溅射出来的挡板材料进入到离子源内部的数量,降低了对离子源的绝缘筒及离子源栅网的损坏,提高了设备的稳定性及可靠性。
搜索关键词: 一种 离子束 刻蚀 系统
【主权项】:
1.一种离子束刻蚀系统,包括反应腔体,载片台,离子源,挡板及挡板驱动装置,其特征在于,所述挡板包括连接部和遮挡部,所述连接部与所述挡板驱动装置相连接,所述挡板在所述挡板驱动装置的作用下绕着驱动轴线在上下两个极限位置间进行旋转,所述驱动轴线与第一方向大致平行,所述遮挡部设置于所述离子源的栅网与所述载片台之间,当所述挡板位于上极限位置,离子束从离子源的栅网发射至遮挡部的表面,所述遮挡部将被离子束溅射出来的挡板材料反射到离子源的栅网以外的区域。
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