[发明专利]一种峰值稳定的蒙特卡洛太阳辐射能密度仿真方法有效
| 申请号： | 201910255348.8 | 申请日： | 2019-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN110008576B | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | 赵豫红;冯结青;段晓悦;何才透 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | G06F30/20 | 分类号： | G06F30/20 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 沈金龙 |
| 地址： | 310013 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种峰值稳定的蒙特卡洛太阳辐射能密度仿真方法，包括以下步骤：(1)根据太阳入射光模型，对入射光方向进行采样；(2)对入射光与定日镜表面的交点进行采样；(3)对入射光进行遮挡测试以获得接收器表面的能量密度分布初始仿真结果；(4)将接收器表面的能量密度分布初始仿真结果进行滤波计算，获得蒙特卡洛太阳辐射能密度仿真结果。本发明峰值稳定的蒙特卡洛太阳辐射能密度仿真方法通过对光线跟踪算法仿真计算的结果加上一步后处理：滤波计算，在保证接收器表面接受的总能量不变的前提下，使得峰值与真值更接近且更稳定，同时降低了RMSE。稳定的峰值和与GT更接近的分布为后续的相关算法研究和仿真提供了可靠保障。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 峰值 稳定 蒙特卡洛 太阳 辐射能 密度 仿真 方法 | ||
【主权项】：
1.一种峰值稳定的蒙特卡洛太阳辐射能密度仿真方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)根据太阳入射光模型，对入射光方向进行采样；(2)对入射光与定日镜表面的交点进行采样；(3)对入射光进行遮挡测试以获得接收器表面的能量密度分布初始仿真结果；(4)将接收器表面的能量密度分布初始仿真结果进行滤波计算，获得蒙特卡洛太阳辐射能密度仿真结果。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学，未经浙江大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910255348.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
