[发明专利]一种掩膜版和蒸镀装置有效
| 申请号： | 201910256621.9 | 申请日： | 2019-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN109852926B | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 张逵;杨盛际 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 张京波;曲鹏 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜版和蒸镀装置。掩膜版包括版体，版体上设置有蒸镀孔；版体上还设置有尘埃容纳凹部，尘埃容纳凹部与蒸镀孔之间具有共有侧壁，共有侧壁分隔尘埃容纳凹部和蒸镀孔。该掩膜版，其版体上设置有蒸镀孔和尘埃容纳凹部，尘埃容纳凹部与蒸镀孔之间具有共有侧壁，共有侧壁分隔尘埃容纳凹部和蒸镀孔，即尘埃容纳凹部与蒸镀孔间隔设置，在蒸镀时，通过尘埃容纳凹部来容纳尘埃，可以改善蒸镀过程中的尘埃颗粒污染，极大提高产品良率，而掩膜版与基板之间的距离就是蒸镀孔与基板之间的距离，这样形成的蒸镀阴影也不会增大。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 装置 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版，包括版体，所述版体上设置有蒸镀孔；其特征在于，所述版体上还设置有尘埃容纳凹部，所述尘埃容纳凹部与所述蒸镀孔之间具有共有侧壁，所述共有侧壁分隔所述尘埃容纳凹部和所述蒸镀孔。
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