[发明专利]次溴酸稳定化组合物的制造方法、次溴酸稳定化组合物、以及分离膜的抑污方法有效

专利信息
申请号: 201910257571.6 申请日: 2014-05-12
公开(公告)号: CN110078194B 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 吉川浩;染谷新太郎;都司雅人;大森千晴 申请(专利权)人: 奥加诺株式会社
主分类号: C02F1/76 分类号: C02F1/76;B01D65/08;C01B11/20;A01N59/00;A01P1/00;A01N25/22
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及次溴酸稳定化组合物的制造方法、次溴酸稳定化组合物、以及分离膜的抑污方法。本发明提供实质上不含溴酸根离子且杀菌性能优异、对于金属而言基本无腐蚀性、保存稳定性优异的单液系的次溴酸稳定化组合物的制造方法,以及分离膜的抑污方法。次溴酸稳定化组合物的制造方法包括在非活性气体气氛下向含有水、碱金属氢氧化物和氨基磺酸的混合液中添加溴而使之反应的工序,溴的添加率相对于组合物的总量为25重量%以下。
搜索关键词: 溴酸 稳定 组合 制造 方法 以及 分离
【主权项】:
1.一种分离膜的抑污方法,其特征在于,该方法包括:使下述次溴酸稳定化组合物中的至少1者存在于向具备分离膜的膜分离装置供给的给水或清洗水中:作为溴系氧化剂与氨基磺酸化合物的反应产物的次溴酸稳定化组合物、以及作为溴化物与氯系氧化剂的反应物再与氨基磺酸化合物反应的反应产物的次溴酸稳定化组合物,其中所述分离膜是由聚酰胺系高分子膜组成的反渗透膜或者由聚酰胺系高分子膜组成的纳滤膜,所述溴系氧化剂为溴,并且所述氨基磺酸化合物的当量相对于所述溴系氧化剂或者溴化物与氯系氧化剂的所述反应产物的当量之比为1以上。
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