[发明专利]基板处理装置有效
| 申请号： | 201910261146.4 | 申请日： | 2019-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN110389501B | 公开（公告）日： | 2023-02-21 |
| 发明（设计）人： | 金哲佑;李锡泳;具敎旭;任世珍 | 申请（专利权）人： | 细美事有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 | 代理人： | 李英艳;李静波 |
| 地址： | 韩国忠*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种基板处理装置，其中，包括：多个显像腔室，排列为一列；及，多个显影液供给喷嘴，设置于所述多个显像腔室，向基板提供显影液，所述多个显影液供给喷嘴包括：主喷嘴，向所述基板首次提供显影液；及，一个以上辅助喷嘴，设置于所述主喷嘴的下游，向所述基板第二次提供显影液。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理装置，其中，包括：多个显像腔室，排列为一列；及，多个显影液供给喷嘴，设置于所述多个显像腔室，向基板提供显影液，所述多个显影液供给喷嘴包括：主喷嘴，向所述基板首次提供显影液；及，一个以上辅助喷嘴，设置于所述主喷嘴的下游，向所述基板第二次提供显影液。
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