[发明专利]具有流扩展器的晶片处理系统

摘要

晶片处理系统和在这些系统中使用的环流扩展器，该流扩展器靠近并围绕晶片承载器的周边边缘。环流扩展器具有面向上游方向的顶表面，环被构造和布置成使得当反应器处于操作状态时，环紧密地围绕晶片承载器并且环的顶表面与承载器的顶表面基本上是位于同一平面的和/或连续的。环流扩展器具有外周面，外周面包括在环的顶表面处或附近的倒圆部分。

主权项

1.一种晶片处理系统，包括：腔室，所述腔室具有限定内部空间的壁，所述腔室中具有晶片承载器，所述晶片承载器具有周边边缘和顶表面；以及环流扩展器，所述环流扩展器在所述腔室内围绕所述晶片承载器，所述环流扩展器具有顶表面、与所述顶表面相对的底表面、内表面和外周面，所述外周面背离所述晶片承载器并从所述顶表面延伸到所述底表面，所述外周面具有倒圆部分，所述倒圆部分靠近所述顶表面并且其半径被限定为不大于0.5英寸。