[发明专利]离子注入设备中传感器的校准机构及其校准方法在审
| 申请号： | 201910270293.8 | 申请日： | 2019-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN109990820A | 公开（公告）日： | 2019-07-09 |
| 发明（设计）人： | 黄家明 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | G01D18/00 | 分类号： | G01D18/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京市一法律师事务所 11654 | 代理人： | 刘荣娟 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供一种离子注入设备中传感器的校准机构，包括：传感器，所述传感器包括至少三个定位孔；校准架，所述校准架包括平行相对的第一校准面和第二校准面，用于承载所述传感器，所述第一校准面和第二校准面分别设置至少两个凹槽，通过所述凹槽与所述传感器的定位孔固定连接；以及辅助校准件，所述辅助校准件的一端被设置为用于与所述定位孔耦合连接，且所述辅助校准件的长度大于第一校准面和第二校准面之间的间距。本申请还提供一种利用所述校准机构校准传感器的方法，所述校准机构以及校准方法可以提高传感器位置的准确性，减少机台误报警。 | ||
| 搜索关键词： | 校准面 传感器 校准机构 定位孔 校准件 离子注入设备 校准架 校准 机台 传感器位置 校准传感器 平行相对 耦合连接 误报警 申请 承载 | ||
【主权项】：
1.一种离子注入设备中传感器的校准机构，其特征在于，包括：传感器，所述传感器包括至少三个定位孔；校准架，所述校准架包括平行相对的第一校准面和第二校准面，用于承载所述传感器，所述第一校准面和第二校准面分别设置至少两个凹槽，通过所述凹槽与所述传感器的定位孔固定连接；以及辅助校准件，所述辅助校准件的一端被设置为用于与所述定位孔耦合连接，且所述辅助校准件的长度大于第一校准面和第二校准面之间的间距。
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