[发明专利]一种首饰真空贵金属溅射设备及工艺

摘要

本发明公开了一种首饰真空贵金属溅射设备及工艺，磁控金箱体上设置有用于控制设备运行状态的控制开关，磁控金箱体上设置有真空抽气系统，真空抽气系统与溅射室通过导气管连通，溅射室内设置有至少一个贵金属磁控溅射靶，溅射室上部设置有加热器，溅射室底部设置有物料旋转执行机构，物料旋转执行机构上设置有用于悬挂物料的物料架；工艺包括：净化处理：将首饰进行清洗处理；去静电；上料；抽真空；溅射处理。本发明能够使设备对首饰品表面溅射上贵金属涂层，能够使首饰具有更好的抗污效果，涂层均匀，同时设备操作简单。

主权项

1.一种首饰真空贵金属溅射设备，其特征在于：包括磁控金箱体(1)、磁控金箱门(2)、控制开关(3)、真空抽气系统(4)、贵金属磁控溅射靶(5)、加热器(6)、物料旋转执行机构(7)和物料架(8)，所述磁控金箱体(1)内设置有溅射室，所述溅射室入口处设置有磁控金箱门(2)，所述磁控金箱体(1)上设置有用于控制设备运行状态的控制开关(3)，所述磁控金箱体(1)上设置有真空抽气系统(4)，，所述真空抽气系统(4)与溅射室通过导气管连通，所述溅射室内设置有至少一个贵金属磁控溅射靶(5)，所述溅射室上部设置有加热器(6)，所述溅射室底部设置有物料旋转执行机构(7)，所述物料旋转执行机构(7)上设置有用于悬挂物料的物料架(8)。