[发明专利]清洗液供给系统、基板处理装置以及基板处理系统有效

专利信息
申请号: 201910272935.8 申请日: 2019-04-04
公开(公告)号: CN110340055B 公开(公告)日: 2023-02-28
发明(设计)人: 宫崎充;今村听;井上拓也;高桥正三 申请(专利权)人: 株式会社荏原制作所
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B3/08;B08B9/032;H01L21/67
代理公司: 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 代理人: 肖华
地址: 日本国东京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种能够向基板清洗装置恰当地供给清洗液或者维护保养性提高的清洗液供给系统、具备这样的清洗液供给系统的基板处理装置、以及具备这样的基板处理装置的基板处理系统。本发明提供一种清洗液供给系统,该清洗液供给系统具备:循环线路,该循环线路的一端与清洗液供给装置的供给口连接,另一端与所述清洗液供给装置的回收口连接,清洗液在该循环线路的内部流动;分支管,该分支管从所述循环线路分支,并且与基板清洗单元连接;阀,该阀设置于所述分支管,并且对从所述循环线路向所述基板清洗单元的清洗液供给进行控制;以及流量调节构件,该流量调节构件对在所述循环线路中流动的清洗液的流量进行调节。
搜索关键词: 清洗 供给 系统 处理 装置 以及
【主权项】:
1.一种清洗液供给系统,其特征在于,具备:循环线路,该循环线路的一端与清洗液供给装置的供给口连接,另一端与所述清洗液供给装置的回收口连接,清洗液在该循环线路的内部流动;分支管,该分支管从所述循环线路分支,并且与基板清洗单元连接;阀,该阀设置于所述分支管,并且对从所述循环线路向所述基板清洗单元的清洗液供给进行控制;以及流量调节构件,该流量调节构件对在所述循环线路中流动的清洗液的流量进行调节。
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